搭載圖案對準功能,X-Y位置確認精度2μm以下。
產品信息
特點
·可整合至300mm設備前端模組(EFEM)單元預備端口
·實現嵌入晶片中的布線圖案的對準(IR相機)
·可對應半導體制造的高生產量要求
·可支持預對準校正功能
·緊湊模式(W475mm×D555mm)
測定事例
·硅通孔技術(TSV)嵌入圖案晶圓研磨后的厚度
·12寸(300mm)晶圓厚度
技術參數
測定案例
貼合晶圓(Si/復合/支撐基板)
Si膜厚分布(約25μm)
復合膜厚分布(約25μm)
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