膜厚量測儀　FE-300[產品打印頁面]

產品信息

特　長

薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價光學薄膜量測儀

藉由優良反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000優異機種90%的強大功能

無復雜設定，操作簡單，短時間內即可上手

線性*小平方法解析光學常數（n:折射率、k:消光系數）

測量項目

• 優良反射率測量

• 膜厚解析（10層）

• 光學常數解析（n：折射率、k：消光系數）

產品規格

樣品尺寸	*大8寸晶圓（厚度5mm）
測量時間	0.1s ~ 10s以內
量測口徑	約φ3mm
通訊界面	USB
尺寸重量	280（W）× 570（D）×350（H）mm，約24kg
軟體功能
標準功能	波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析
選配功能	材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析

※1 請于本公公司聯系聯系我們
※2 對比VLSI標準樣品（100nm SiO2/Si），范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標準樣品（100nm SiO2/Si）同一點位時之重復再現性。（擴充系數2.1）

應用范圍

半導體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）

測量范例

• PET基板上的DLC膜



• Si基板上的SiNx

  

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