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江苏苏州日本分光干渉式晶圆膜厚仪[产品打印页面]

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产品名称: 江苏苏州日本分光干渉式晶圆膜厚仪
产品型号: SF-3
产品展商: 其它品牌

简单介绍
非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速的即时研磨检测 可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测 可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中 体积小、省空間、设备安装简易 可对应线上检测的外部信号触发需求 采用*适合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得砖利) 可自动进行膜厚分布制图(选配项目)

江苏苏州日本分光干渉式晶圆膜厚仪的详细介绍


SF-3

膜厚测量范围

0.1 μm ~ 1600 μm※1

膜厚精度

±0.1% 以下

重复精度

0.001% 以下

测量时间

10msec 以下

测量光源

半导体光源

测量口径

Φ27μm※2

WD

3 mm ~ 200 mm

测量时间

10msec 以下

※1 随光谱仪种类不同,厚度测量范围不同
※2 *小Φ6μm

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