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江蘇蘇州日本分光干渉式晶圓膜厚儀[產品打印頁面]

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產品名稱: 江蘇蘇州日本分光干渉式晶圓膜厚儀
產品型號: SF-3
產品展商: 其它品牌

簡單介紹
非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測 采用分光干涉法實現高度檢測再現性 可進行高速的即時研磨檢測 可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測 可對應長工作距離、且容易安裝于產線或者設備中 體積小、省空間、設備安裝簡易 可對應線上檢測的外部信號觸發需求 采用*適合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得磚利) 可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)

江蘇蘇州日本分光干渉式晶圓膜厚儀的詳細介紹


SF-3

膜厚測量范圍

0.1 μm ~ 1600 μm※1

膜厚精度

±0.1% 以下

重復精度

0.001% 以下

測量時間

10msec 以下

測量光源

半導體光源

測量口徑

Φ27μm※2

WD

3 mm ~ 200 mm

測量時間

10msec 以下

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 *小Φ6μm

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