简单介绍:
日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300
详情介绍:
产品信息
特 长
薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析
高性能的低价光学薄膜量测仪
藉由优良反射率光谱分析膜厚
完整继承FE-3000优异机种90%的强大功能
无复杂设定,操作简单,短時間內即可上手
线性*小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)
测量项目
优良反射率测量
膜厚解析(10层)
光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)
产品规格
样品尺寸
*大8寸晶圆(厚度5mm)
测量时间
0.1s ~ 10s以內
量测口径
约φ3mm
通讯界面
USB
尺寸重量
280(W)× 570(D)×350(H)mm,约24kg
软体功能
标准功能
波峰波谷解析、FFT解析 适化法解析 小二乘法解析
选配功能
材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析
※1 请于本公公司联系联系我们※2 对比VLSI标准样品(100nm SiO2/Si),范围值同保证书所记载※3 测量VLSI标准样品(100nm SiO2/Si)同一点位时之重复再现性。(扩充系数2.1)
应用范围
半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
测量范例
PET基板上的DLC膜
Si基板上的SiNx
长期供应 大冢光学OTSUKA RETS-100 日本OTSUKA
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