簡單介紹:
日本大冢膜厚量測儀FE-300 日本大冢膜厚量測儀FE-300 日本大冢膜厚量測儀FE-300
詳情介紹:
產品信息
特 長
薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學薄膜量測儀
藉由優良反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000優異機種90%的強大功能
無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手
線性*小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)
測量項目
優良反射率測量
膜厚解析(10層)
光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)
產品規格
樣品尺寸
*大8寸晶圓(厚度5mm)
測量時間
0.1s ~ 10s以內
量測口徑
約φ3mm
通訊界面
USB
尺寸重量
280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg
軟體功能
標準功能
波峰波谷解析、FFT解析 適化法解析 小二乘法解析
選配功能
材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析
※1 請于本公公司聯系聯系我們※2 對比VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載※3 測量VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復再現性。(擴充系數2.1)
應用范圍
半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
測量范例
PET基板上的DLC膜
Si基板上的SiNx
長期供應 大冢光學OTSUKA RETS-100 日本OTSUKA
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