日本MIKASA米卡薩株式會社:勻膠機，顯影、涂布機、旋涂機、光刻機
日本MIKASA米卡薩株式會社:勻膠機，顯影、涂布機、旋涂機、光刻機提供技術支持!日本MIKASA米卡薩株式會社 日本MIKASA株式會社中國代理:MIKASA光刻機旋轉塗飾機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理:MIKASA光刻機,旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機,旋轉塗機，真空泵 半導體制造工序中的Mikasa半導體設備
晶園、洗滌**晶園表面的臟污及
各種金屬離子、成膜
在高溫擴散爐中，形成、表面氧化膜
電路圖案設計、運用CAD制作布局、布線
設計圖。制作光掩膜
將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)
光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶
圓表面，形成厚度均一的薄膜,
旋轉涂膜儀(P4~P11)將光掩膜與晶園重合，復制電路
圖案。
光刻機(P13~P15)
可選組件
顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
顯影裝置(P17.18)、蝕刻
通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。
蝕刻裝置(P19)
離子注入/濺射
向晶園注入離子(混雜物)滴液裝置可選組件 吸盤
MS-B100/ MS-B150
MS-B200
MS-B300
·MS-B200(密閉型)
MS-B300(密閉型
日本MIKASA光刻機L
MA-10
。MA-20
®MA-60F
●M-2LF
。M-1S
日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復制電路圖案，日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching日本MIKASA旋轉涂布機MS-A150/MS-B150現貨現貨旋轉涂膜儀
去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
。AD-1200
AD-3000
PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置蝕刻裝置
。ED-1200
。ED-3000
日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務，另外，為旋轉涂膜儀的所有機型準備了替代用機。可在發生故障時盡早應對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務。針對研究過程中所發生的一系列問題，也可在現場提出解決建議。與客,戶共同探討在哪個工序出現了問題、應如向改進等等，從而得出解決建議。Miasa 作為一個可在半導體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設備，而是為客戶半導體制造的整體工藝流程，將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜
日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務.。日本Mikasa 半導體用設備 旋涂機
MS-B100
MS-B150
MS-B200
MS-B300
MS-B200
密閉型MS-B300
密閉型MA-20
MA-10B
MA-60F
M-2LF
M-1S
AD-1200
AD-3000
ED-1200
