如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱:
代理AMAYA天谷制作所晶圓的常壓CVD設備
產品型號:
A6300S
產品展商:
日本AMAYA天谷制作所
簡單介紹
AMAYA株式會社天谷制作所A6300S
常壓CVD裝置，準備了滿足顧客需求的產品陣容。同時，定做也對應。
對應于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途。從少量生產到大量生產
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區域可以廣泛成膜
代理AMAYA天谷制作所晶圓的常壓CVD設備的詳細介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作所
量產6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設備
A6300S
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6 英寸 吞吐量為每小時 120 張
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采用SiC托盤防止重金屬污染的對策
特征
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這是一種連續常壓CVD系統，可滿足小直徑晶圓批量生產設備的需求，實現每小時120片晶圓的吞吐量。
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該設備通過運輸系統實現批量生產，該系統*大限度地減少了為實現各種薄膜沉積區域而開發的分散頭和托盤的數量，并降低了成本。
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使用SiC托盤很難發生重金屬污染。 此外，可以獲得穩定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
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標配自動托盤更換功能，實現工人**，縮短維護時間。 此外，自動抬起頭部底座的機構便于清潔。
性能
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均勻的薄膜厚度
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≦±4.0%
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支持的晶圓尺寸
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≦6英寸
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氣體種類
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SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉積溫度
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350°C~450°C
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生產力
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120 頁/小時
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主要規格
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設備尺寸
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1500毫米（寬） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高）
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加熱機構
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電阻加熱
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裝載卸載
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機器人 CtoC 運輸
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分散頭（氣體噴嘴）
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A63 頭（標準 2 頭）
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