苏州市新杉本电子科技有限公司
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SHIBUYA涉谷光学
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SAKURAI樱井无尘纸
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日本AMAYA天谷制作所
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产品简单介绍
苏州AMAYA天谷 刚性和柔性的常压CVD设备
玻璃基板沉积设备
AMAYA株式会社天谷制作所玻璃基板沉积设备 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
优势代理AMAYA天谷制作所 晶圆设备
AMAX1000S
AMAYA株式会社天谷制作所AMAX1000S 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
日本天谷AMAYA株式会社制作常压CVD设备
D501系列
AMAYA株式会社天谷制作所D501系列 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
代理AMAYA天谷制作所晶圆的常压CVD设备
A6300S
AMAYA株式会社天谷制作所A6300S 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
AMAYA天谷株式会社12英寸连续常压CVD设备
AMAX1200
AMAYA株式会社天谷制作所AMAX1200 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
AMAYA天谷制作所常压CVD设备半导体设备
AMAX800V
AMAYA株式会社天谷制作所AMAX800V 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
代理AMAYA天谷制作所 单晶圆常压CVD装置
A200V
AMAYA株式会社天谷制作所 常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。 对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种 采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
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