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产品名称:
AMAYA天谷制作所常压CVD设备半导体设备
产品型号:
AMAX800V
产品展商:
日本AMAYA天谷制作所
简单介绍
AMAYA株式会社天谷制作所AMAX800V
常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。
对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种
采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
AMAYA天谷制作所常压CVD设备半导体设备的详细介绍
日本AMAYA株式会社天谷制作所
具有极端连续型的高生产率常压CVD设备
AMAX800V
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8英寸 每小时 100 张的高吞吐量
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使用SiC托盘的重金属污染对策和长期稳定的工艺
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提高可维护性
特征
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通过改进输送机构实现了高吞吐量。
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SiH4，PH3，B2H6和O2从AMAX型分散头分散后混合并表面反应，优化后在低温和低压下更有效地产生热化学反应。 可以获得优异的膜厚均匀性和杂质浓度均匀性。
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使用SiC托盘很难发生重金属污染。 此外，可以获得稳定的工艺性能，而由于热引起的老化很小。
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标配自动托盘更换功能，实现工人**，缩短维护时间。 此外，自动抬起头部底座的机构便于清洁。
性能
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均匀的薄膜厚度
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≦±3.0%
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支持的晶圆尺寸
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8寸
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气体种类
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SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉积温度
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350°C~450°C
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生产力
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100个/小时
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主要规格
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设备尺寸
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1460毫米（阔） x 3830毫米（深） x 2250毫米（高）
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加热机构
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电阻加热
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装载卸载
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机器人 CtoC 运输
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分散头（气体喷嘴）
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AMAX头（标准2头，3头可用）
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