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产品名称:
椭圆偏光膜厚量测仪（自动）
产品型号:
cp-008
产品展商:
OTSUKA大冢光学
简单介绍
椭圆偏振术量测紫外光到可见光波长椭圆参数。
0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度量测。
400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速量测椭圆偏光光谱。
可自由变换反射量测角度，得到更详细的薄膜解析数据。
非线性*小平方法解析多层膜、光学常数。
椭圆偏光膜厚量测仪（自动）的详细介绍
产品特点
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椭圆偏振术量测紫外光到可见光波长椭圆参数。
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0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度量测。
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400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速量测椭圆偏光光谱。
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可自由变换反射量测角度，得到更详细的薄膜解析数据。
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非线性*小平方法解析多层膜、光学常数。
产品规格
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膜厚量测范围
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0.1 nm ~
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波长量测范围
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250~800 nm(可选择350~1000nm)
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感光元件
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光电二极管阵列512ch(电子制冷)
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入射/反射角度范围
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45~90°
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电源规格
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AC1500VA(全自动型)
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尺寸
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1300(H)×900(D)×1750(W)mm
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重量
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约350kg(全自动型)
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应用范围
应用范围
■半导体晶圆
・电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等
・SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
・光阻剂光学常数(波长色散)
■化合物半导体
・AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽
■平面显示器
・配向膜
・电浆显示器用ITO、MgO等
■新材料
・类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜
■光学薄膜
・TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜
■平版印刷领域
・g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价
应用范例
非线性*小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认