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產品名稱:
橢圓偏光膜厚量測儀（自動）
產品型號:
cp-008
產品展商:
OTSUKA大冢光學
簡單介紹
橢圓偏振術量測紫外光到可見光波長橢圓參數。
0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度量測。
400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速量測橢圓偏光光譜。
可自由變換反射量測角度，得到更詳細的薄膜解析數據。
非線性*小平方法解析多層膜、光學常數。
橢圓偏光膜厚量測儀（自動）的詳細介紹
產品特點
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橢圓偏振術量測紫外光到可見光波長橢圓參數。
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0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度量測。
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400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速量測橢圓偏光光譜。
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可自由變換反射量測角度，得到更詳細的薄膜解析數據。
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非線性*小平方法解析多層膜、光學常數。
產品規格
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膜厚量測范圍
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0.1 nm ~
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波長量測范圍
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250~800 nm(可選擇350~1000nm)
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感光元件
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光電二極管陣列512ch(電子制冷)
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入射/反射角度范圍
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45~90°
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電源規格
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AC1500VA(全自動型)
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尺寸
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1300(H)×900(D)×1750(W)mm
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重量
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約350kg(全自動型)
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應用范圍
應用范圍
■半導體晶圓
・電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜，電極材料等
・SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
・光阻劑光學常數(波長色散)
■化合物半導體
・AlxGa (1-x) As多層膜、非結晶矽
■平面顯示器
・配向膜
・電漿顯示器用ITO、MgO等
■新材料
・類鉆碳薄膜(DLC膜)、超傳導性薄膜、磁頭薄膜
■光學薄膜
・TiO 2、SiO 2、多層膜、抗反射膜、反射膜
■平版印刷領域
・g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)等于各波長的n、k值評價
應用范例
非線性*小平方法比對NIST標準樣品(SiO 2)膜厚精度確認