OTSUKA大塚電子 - 蘇州市新杉本電子科技有限公司

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分類

產品圖片	產品名稱/型號	產品簡單介紹
	江蘇蘇州日本進口晶圓在線測厚系統 GS-300	·可整合至300mm設備前端模組（EFEM）單元預備端口 ·實現嵌入晶片中的布線圖案的對準(IR相機) ·可對應半導體制造的高生產量要求 ·可支持預對準校正功能 ·緊湊模式（W475mm×D555ｍｍ）
	江蘇蘇州日本分光干渉式晶圓膜厚儀 SF-3	非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測采用分光干涉法實現高度檢測再現性可進行高速的即時研磨檢測可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測可對應長工作距離、且容易安裝于產線或者設備中體積小、省空間、設備安裝簡易可對應線上檢測的外部信號觸發需求采用*適合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得磚利) 可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)
	顯微分光膜厚儀OPTM series	使用顯微光譜法在微小區域內通過優良反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數分析。可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數的軟件
	相位差膜・光學材料檢查設備　RETS-100	對應范圍廣，從反射型・透過型type的已封入液晶的cell到帶有彩色濾光片的空cell都可對應
	膜厚測量用多通道光譜儀MCPD系列	光譜儀（MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700）提供豐富選配套件以及客制化光纖，可依據安裝現場需求評估設計，是一套可靈活架設于各種環境下的*佳即時測量系統
	多檢體納米粒徑量測系統nanoSAQLA	利用動態光散射法(DLS法)的粒徑測量（粒徑0.6nm～10μm）儀器。追求更高品質管理的需求，搭載了各種功能。可對應檢體范圍廣，低濃度～高濃度類，新光學系，輕便•小型，實驗室標配。實現標準1分鐘高速測量。新產品，非浸泡型，不受夾雜物的影響，無自動取樣器，“5檢體連續測量”的標準設備。
	ZETA電位･粒徑･分子量測系統 ELSZ-2000	此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位･粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell。另，在0～90℃的大的溫度范圍內，測量自動溫度的梯度空間，分析変性・相轉移溫度
	上海日本大冢OTSUKA自由臂式放大鏡 OTSUKA	日本大冢(OTSUKA)_日本OTSUKA大冢自由臂式放大鏡_

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